真空腔体是一种保持内部为真空状态的容器，主要应用于半导体制造中。反应釜的制作需要考虑到容积、材质和形状。不锈钢是高真空系统的主要结构材料，具有优良的抗腐蚀性、放气率低、无磁性、焊接性好、导电率和导热率低等优点，在反应釜的制作中应用广泛。近年来，铸造铝合金也逐渐被用于制作。另外，钛合金也被用于制作特殊用途的真空反应釜。

       在真空腔体的制作过程中，表面处理方式包括喷丸、喷砂和机械抛光。

       喷丸是一种采用高速冲击将工件表面植入残余压应力的冷加工工艺，可提升工件的强度。

       喷砂是利用压缩空气将高速喷射束将喷料高速喷射到工件表面，清理和粗化基体表面的过程，使工件表面的外表面的外表或形状发生变化。

       真空腔体的机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具。