真空腔体在半导体制造中有着重要的作用，其运行参数也是评价其性能的重要标准。以下是一些常见的运行参数：

       1、真空度：反应釜重要的运行参数之一，它直接决定了半导体制造过程中的环境状况。高真空度可以减少气体分子对半导体表面的污染，提高制程质量和产量。一般来说，反应釜的真空度越高，制程效果越好。

       2、温度：在半导体制造过程中，反应釜的温度需要被准确控制。不同的制程步骤需要不同的温度条件，以确保制程质量和效率。温度的波动会影响制程的稳定性和一致性。

       3、洁净度：在半导体制造过程中，需要保持真空腔体的内部洁净，以减少对半导体的污染。污染物可能会影响半导体的性能和质量，因此需要采取措施来保障真空反应釜的洁净度。

       4、稳定性：真空反应釜的运行稳定性对于半导体制造过程很重要。如果真空反应釜的性能不稳定，可能会对制程结果产生不良影响。因此，需要定期对真空反应釜进行检查和维护，以确保其稳定运行。

       5、泄漏率：真空反应釜的泄漏率是评价其性能的重要参数之一。如果真空反应釜存在泄漏，会直接影响其真空度和稳定性，进而影响制程效果。因此，需要采取措施来检测和降低泄漏率。

       总的来说，在半导体制造过程中，真空腔体的运行参数需要被严格控制和监测，以确保制程的稳定性和质量。